GB/T4597-20122.2发射和空间电荷[IEC IEV50531:1974,定义531-12]2.2.1电子发射electron emission电子从材料表面逸出到空间的过程。[1 EC IEV50531:1974,定义531-12-01]2.2.2逸出功(电极材料的)work function(of electrode material).将某一电极材料中处于费米能级的电子移到材料外无穷远处所需的能量。[IEC IEV50531:1974,定义531-12-02]2.2.3接触电势差contact potential difference接触电位差两种材料相接触时,在两端形成的电势/位差,其值为两种材料逸出功之差除以电子电荷量所得的商。[IEC IEV50531:1974,定义531-12-03]2.2.4热电子发射thermionic emission因电极温度增而引起的电发J.NE[IEC1EV50531:1974,定义531-12-04]2.2.5光电[子]发射photoelectric emission由入射的光辐射引起的电子发射。[1 EC IEV50531:1974,定义531-12-05]2.2.6场致发射field emission仅由电场所引起的电子发射。[IEC IEV50531:1974,定义531-12-06]2.2.7一次[原]电子发射primary-electron emission由热、光电或电场直接引起的电子发射。[IEC1EV50531:1974,定义531-12-07]2.2.8二次电子发射secondary--electron emission由电子或离子轰击电极材料表面而引起的电子发射。[1 EC IEV50531:1974,定义531-12-08]2.2.9二次电子发射电流secondary--electron emission current由二次电子发射和入射原电子的反射所形成的电流。[IE℃1EV50531:1974,定义531-12-09]2筑321-标准查询下载网蜀素衬闯Z.Z心 GB/T4597-2012[IEC IEV50531:1974,定义531-14-03]2.4.4电子束/注压缩系数beam compression factor电子束/注压缩比在指定截面内电子束/注的平均电流密度对参考截面(通常为阴极表面)的电子束/注平均电流密度的比值。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-04]2.4.5电子束发散角beam-divergence angle由交叉点发出的锥形电子束的立体角。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-05]2.4.6静电聚焦electrostatic focusing用静电场使电子束/注聚焦。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-06]2.4.7磁聚焦magnetic focusing用磁场使电子束/注聚焦。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-07]2.4.偏转deeJ.NE用电场和/或磁场使电子束/注改变方向。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-08]2.4.9静电偏转electrostatic deflection由静电场引起的偏转。[IEC1EV50531:1974,定义531-14-09]2.4.10磁偏转magnetic deflection由磁场引起的偏转。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-10]2.4.11偏转电压deflection voltage加在一对偏转电极间的电压。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-11]2.4.12偏转电流deflection current偏转线圈中的电流。[IEC IEV50531:1974,定义531-14-12]2.4.13对称偏转symmetrical deflection加上偏转电压时,两个偏转电极的电压平均值保持不变的一种偏转方式。[1 EC IEV50531:1974,定义531-14-13]7筑321·标准查询下载网蜀素衬闯Z.Z心
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